Vícestupňový vakuový generátor řady ZL
Vícestupňový vakuový ejektor řady ZL112
Vícestupňový vakuový ejektor řady ZL112 využívá vysoce účinnou vícestupňovou strukturu, která dosahuje rychlého vytváření vakua a energeticky úsporného provozu díky optimalizaci dynamiky proudění vzduchu. Jeho jádro spočívá v kombinaci kompaktního, lehkého těla a modulárních funkcí pro přizpůsobení se potřebám vysokofrekvenční a vysoce spolehlivé vakuové adsorpce průmyslové automatizace a je vhodný pro scény, jako je elektronika, balení a manipulace s automobilovými díly.
Základní vlastnosti
Technologie vícestupňové expanze
Třístupňová struktura řady trysek Laval je přijata pro výrazné zlepšení účinnosti sání prostřednictvím segmentovaného natlakování. Ve srovnání s jednostupňovým řešením trysky se jeho sací průtok zvýší asi o 250 %, zatímco spotřeba stlačeného vzduchu se sníží o 10 % ~ 20 %, s ohledem na velký požadavek na průtok a řízení spotřeby energie.
Integrovaný systém úspory energie
Volitelný vakuový tlakový spínač (jako je ZSE20A) podporuje monitorování stavu adsorpce v reálném čase a automatické řízení start-stop. Například, když je dosaženo nastavené hodnoty vakua, přívodní ventil se automaticky uzavře, aby se snížila neplatná spotřeba plynu, s komplexním účinkem úspory energie o více než 90 % a cyklus odezvy se zkrátí na milisekundy.
Lehký modulární design
Hmotnost těla stroje je o 60 % lehčí než u předchozí generace (některé modely váží pouze 180 g) a vestavěné tlumiče, vakuové filtry a další komponenty snižují složitost vnějšího potrubí. Podporuje demontáž a montáž bez použití nářadí a výrazně se zlepšuje pohodlí při údržbě.
Funkční optimalizace
Kompatibilita a škálovatelnost: Poskytuje odbočné porty, ventily/bezventilové, digitální spínače a další kombinované specifikace, přizpůsobuje se rozsahu tlaku 0,2-0,7 MPa a podporuje jednotnou správu parametrů komunikace IO-Link.
Přizpůsobivost prostředí: Hliníkový plášť je odolný proti korozi, provozní teplota pokrývá 5-50 °C a vestavěný speciální tlumič snižuje hluk výfuku, což splňuje požadavky aplikací v čistém prostředí.
